名藍LRO-500II型EDI去離子水設備

EDI純水設備功能特點
由預處理系統、反滲透純水系統、EDI深度除鹽系統、后純化處理系統、殺菌系統，循環供水系統組成的多功能全自動裝置。使用安全、方便，運行費用低廉，產水水質穩定的全自動成套設備

超純水設備工藝：

1、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm過濾器→產水(≥18MΩ.CM)

2、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→級反滲透(正電荷反滲透膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)

3、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)

4、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→混床→紫外線殺菌器→過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)

EDI超純水設備兩大核心技術：

反滲透技術

反滲透是外加壓力對高濃度溶液提供比滲透壓差大的壓力，水分子將被迫通過半透膜到低濃度的一邊反滲透可以濾除高達98%以上的鹽分以及在內的絕大多數污染物，我公司選擇的反滲透膜采用美國進口，其高脫鹽率，大大保證了水的品質。

超純水設備應用范圍：

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

集成電路生產中高純水清洗硅片

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏顯像管、螢光粉生產

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

實驗室和中試車間

汽車、家電表面拋光處理

光電產品、其他高科技精微產品