預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲透膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)"/>
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電子工業超純水設備的要求-重慶名藍水處理設備發表時間:2021-03-03 10:12 電子工業超純水設備的要求-重慶名藍水處理設備 電子工業超純水設備水質標準: 我公司半導體行業用超純水出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、大規模集成電路水質標準。 電子工業超純水設備的工藝流程: 1、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→產水(≥18MΩ.CM) 2、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲透膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM) 3、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM) 4、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→混床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM) |